據(jù)外媒報道，英國赫瑞瓦特大學與ASML已經(jīng)達成一項為期5年的合作協(xié)議，雙方將在新光源技術(shù)發(fā)展上尋求突破。根據(jù)赫瑞瓦特大學官方網(wǎng)站顯示，作為雙方合作的一部分，ASML將向該大學提供一間全新實驗室。

借助與ASML合作項目，大學的John Travers教授將加快基礎物理學研究，并為從實驗室到新激光技術(shù)的市場應用開辟道路。

圖片來源：ASML

眾所周知，ASML是半導體光刻機的全球領先制造商。該公司生產(chǎn)的光刻機利用光在硅上印刷微小圖案，從而實現(xiàn)半導體芯片的批量生產(chǎn)。精度是光刻技術(shù)的關(guān)鍵。光學計量的過程是用光建立所需的精確測量值。通過使用ASML光刻機（每臺售價數(shù)百萬美元），使幾家大型的芯片制造商可以生產(chǎn)性能更好、價格更便宜的芯片。

據(jù)悉，新實驗室將在赫瑞瓦特大學校內(nèi)落成，屆時將提升基礎物理學研究向工業(yè)應用轉(zhuǎn)化的速度。當前，Travers教授的研究重點是用于光學計量的新型寬帶光源。ASML設備中的傳感器需要在不同波長下工作，不同的材料將會呈現(xiàn)出不同的吸收方式。

Travers教授表示：“最近研究中用到的光學組件類型，曾經(jīng)在基礎物理研究領域中使用過。與ASML展開緊密合作，將使我們的工作迅速向產(chǎn)業(yè)化發(fā)展，我們也將應對特殊的工程技術(shù)挑戰(zhàn)，并應用該技術(shù)創(chuàng)造對現(xiàn)實世界的影響。”

赫瑞瓦特大學里的詹姆斯·瓦特雕像

“光源技術(shù)進步的應用不僅局限于半導體芯片制造。該技術(shù)在醫(yī)療保健技術(shù)和精密制造中也有廣泛的應用前景，”ASML開發(fā)與工程部副總裁Hein Otto Folkerts談到，“ASML歷來與學術(shù)界保持著密切的合作關(guān)系。我們與赫瑞瓦特大學、Travers教授的合作將豐富公司的研究項目，以支持原先制定的技術(shù)路線。”

2020年12月，赫瑞瓦特大學就曾與超快激光制造商Chromacity簽署了為期5年的戰(zhàn)略關(guān)系協(xié)議。根據(jù)協(xié)議，該大學將為Chromacity提供光子學領域先進的實驗室設施和研究人員的訪問權(quán)限，Chromacity則通過每年至少借調(diào)一名工程學博士學生的方式，為大學提供支持。

光刻機

光刻，就是使用光在硅上印刷微小的電路圖案，從而批量生產(chǎn)各類集成電路芯片。光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是投影系統(tǒng)，把設計師設計的芯片圖案縮小之后刻在半導體材料上，經(jīng)過復雜的加工處理，得到了各種功能的芯片。

根據(jù)所使用的光的波長不同，光刻機分為DUV（深紫外線）光刻機和EUV（極紫外線）光刻機，DUV（深紫外線）光刻技術(shù)使用的是波長193nm的光，而EUV（極紫外線）光刻機使用的波長13.5nm的光。

使用的光波長越小，制造芯片的工藝制程越高。目前DUV（深紫外線）光刻機是半導體制造廠商的主流工具，覆蓋從45nm-10nm/7nm半導體工藝。